1月20日快科技消息，全球知名光刻机巨头ASML发布2021全年财报，数据显示，公司全年营收达到186.11亿欧元，得益于良好的市场环境，相比去年同期，营收增长33%。
针对新一代NA0.55高数值孔径的EUV光刻机，ASML也官宣首位购买客户，将由英特尔获得。
英特尔抢购新款EUV光刻机
据笔者了解到，ASML新一代的NA 0.55光刻机产品分辨率达到8纳米，而台积电和三星使用的EUV光刻机产品的分辨率只有13纳米，在生产先进芯片的过程中，新款光刻机的图形曝光的成本更低、效率更高。
但需要明白的是，新一代NA 0.55光刻机造价成本也更高，达到3亿美元，约合人民币19亿元，而目前已经出货的EUV光刻机设备也还有1.5亿美元而已。
尽管ASML最新型号EUV光刻机还未投产，但英特尔已经打钱预定，根据ASML官方网站显示的消息，英特尔是业内唯一一家订购NA 0.55光刻机的企业。
事实上，英特尔成功抢购首台新款EUV光刻机并不意外，因为早在2021年7月份时，英特尔方面便透露，将会获得业界第一台最先进的EUV光刻机设备。
翻身之战奠基础
显而易见，英特尔此次抢购ASML新款光刻机设备，也是为了抢夺最强芯片制造企业的地位。在过去很长一段时间里，因为英特尔的决策失误，其工艺技术一直停留在成熟工艺节点，尤其是在2019年，英特尔量产10nm，台积电和三星已经开始试产5nm，而英特尔的7nm还在规划当中。
如今，三星和台积电的工艺技术已经来到4nm节点，更为先进的3nm技术也将在今年下半年量产，这无疑进一步拉开了与英特尔之间的距离。
为此，在2021年，英特尔便制定了IMD2.0计划，复苏芯片代工业务。但制程工艺的落后，对于英特尔重返芯片代工领域并不利，无法得到客户的认可，而且，在光刻机设备方面也不占优势。
根据笔者了解，在半导体工艺正式进入7nm节点后，ASML研发的EUV光刻机产能几乎被台积电和三星做包揽，尤其是台积电，手中掌握的光刻机设备众多。
所以，英特尔在全球范围内开始疯狂建立芯片工厂，提升产能，拿出数千亿美元的资金用于技术研发。
按照英特尔制定的计划，要在2024年实现20A工艺的量产，该工艺相当于台积电2nm工艺。
毫无疑问，无论是提升芯片产能，还是实现20A工艺技术的量产，必须要依赖先进的EUV光刻机设备。
正因如此，英特尔才会率先抢购新款EUV光刻机设备，为未来超越台积电和三星做准备，建立光刻机方面的优势。
台积电逐渐“失宠”
按照以往的惯例，台积电作为ASML最大的客户，新一代的EUV光刻机的订单应该会给到台积电，但从上述来看，结果却恰恰相反，被英特尔捷足先登。
这将会对台积电造成什么影响？
在笔者看来，台积电无法获得新一代EUV光刻机影响还是非常大，要知道，越先进的制程工艺，对于EUV光刻机的技术的要求越高，而ASML的新一代EUV光刻机更是生产2nm及以下工艺节点芯片的关键设备。
换言之，如果没有新款EUV光刻机设备，将会影响台积电在先进工艺技术方面的研发和量产进度。
并且，目前台积电也在不断扩建产能，对于光刻机的需求也在不断攀升。
写到最后
对于台积电而言，不仅要面临三星的威胁，而且，英特尔的威胁也不容忽视。不难预见，未来的芯片市场，台积电、三星以及英特尔之间的竞争将愈发激烈。
